عنوان	اثر محلول پاشی گرافن اکسید بر رشد و خصوصیات فیزیولوژیکی خیار تحت تنش شوری
نوع پژوهش	پایان نامه های تقاضا محور و غیر تقاضا محور
کلیدواژه‌ها	تنش شوری، خیار، سدیم کلراید، گرافن اکسید، محلول پاشی
چکیده	پژوهش حاضر با هدف بررسی تأثیر محلول‌پاشی گرافن اکسید (GO) بر رشد، صفات فیزیولوژیکی و عملکرد گیاه خیار (Cucumis sativus L.) تحت سطوح مختلف تنش شوری در شرایط گلخانه‌ای انجام شد. آزمایش به‌صورت فاکتوریل در قالب طرح کاملاً تصادفی با سه سطح شوری (0، 30 و 60 میلی‌مولار کلرید سدیم) و محلول‌پاشی گرافن اکسید در دو سطح (صفر و 10 میلی‌گرم بر لیتر) اجرا گردید. نتایج نشان داد که تنش شوری موجب افزایش معنی‌دار نشت الکتریکی و کاهش محتوای نسبی آب برگ (RWC)، رنگیزه‌های فتوسنتزی (کلروفیل a و b)، وزن تر و خشک اندام‌های گیاهی و صفات رویشی شد. با این حال، محلول‌پاشی گرافن اکسید توانست اثرات منفی تنش شوری را به‌طور محسوسی کاهش دهد. استفاده از گرافن اکسید باعث کاهش بیش از 30٪ نشت الکتریکی، حفظ 75٪ محتوای آبی برگ در شوری بالا، افزایش معنی‌دار فعالیت آنتی‌اکسیدانی، افزایش فنول و قندهای محلول، و پایداری نسبی کلروفیل گردید. در صفات رشدی، GO باعث افزایش طول ساقه، تعداد برگ، طول و قطر میوه و تعداد گل شد، در حالی که میزان برگ‌های سوخته و میوه‌های بدشکل را به‌طور معنی‌داری کاهش داد. این یافته‌ها نشان می‌دهد که گرافن اکسید با تقویت سیستم‌های دفاعی آنزیمی و غیرآنزیمی، حفظ تعادل یونی، و بهبود جذب آب و عناصر غذایی، تحمل خیار را در برابر تنش شوری افزایش داده است.
پژوهشگران	مهدی بیکدلو (استاد مشاور)، حمیدرضا روستا (استاد راهنما)، زینب بسحاق (دانشجو)