در این مقاله دستکاری قطبش امواج نوری بواسطه میکس دو موج نوری در یک محیط غیرخطی پلاسمایی بررسی شده است. در محیط های غیرخطی، ضریب شکست محیط وابسته به شدت نور موج ورودی می باشد.همچنین در برهمکنش دو موج نوری در یک محیط پلاسما، نیروی پاندروماتیو موج برخوردی آنها، سبب ایجاد یک چگالی اختلالی و در نهایت یک مدولاسیون چگالی درون پلاسما می گردد. این تغییرات چگالی مستقیما سبب تغییر در ضریب شکست محیط و در نهایت تغییر در شاخصه های امواج نو ری می گردد. همچنین با توجه به سرعت بالای پاسخ پلاسما ، می توان پلاسما را یک محیط غیر خطی مناسب برای دستکاری های نوری در نظر گرفت. با توجه به اهمیت دستیابی به توانایی دستکاری نوری، و با استفاده از نتایج این طرح، محققان به ساخت سیستم های دقیق مخابراتی ، لیزری و فتونیکی فوق سریع و همچنین همجوشی های لیزری موثر، نزدیک تر خواهند شد .
