فهیمه پرویزیان

دراین مطالعه،بااستفاده ازپلی اترسولفون) PES (به عنوان پلیمر پایه برای ساخت غشای نانوفیلتراسیون واز پلیوینیلپیرولیدین) PVP ) به عنوان عامل حفره سازودی متیل استامید) DMAC ( به عنوان حلال با استفاده ازتکنیک تغییرفازساخته شد. ازاکتاآمونیوم پاس) OA-POSS ( وپلیوینیلالکل) PVA ( برای اصلاح سطح غشاهای آماده شده استفاده شد. از عکس های میکروسکوپ الکترونی) SEM ،) آنالیز FTIR ، ICP ، تخلخل، پس دهی نمک و شار عبوری از غشا، زاویه تماس و درصد محتوای آب برای غشاهای ساخته شده مورد بررسی قرارگرفت. نتایج نشانداد که درتصاویر SEM بااضافه کردن مواد اصلاح کننده ضخامت لایه گزینش پذیری بیشترشدهاست. ودرغشاهای اصلاح شده شار آب کاهش پیداکرد اما پس دهی نمک 4SO2Na افزایش داشته است که در غشای 4M به 1 / 70 درصدرسیده است. غشاهای اصلاحشده سطح صافو هموارتری از خود نشان دادند. زاویه تماس ومحتوای آب درغشاهای اصلاح شده نشان ازآب دوست شدن سطح غشا را دارد که غشای 4M کمترین زاویه تماس را دارا بود. دررابطه با خواص ضدگرفتگی هم نشان داد که غشای 4M )بازیابی شار 14 / 55 درصد،رسوب برگشت پذیر 52 / 12 درصد،رسوب برگشت ناپذیر 41 / 39 درصد و رسوب کل 11 / 48 درصد(بوده است. وهمچنین در جداسازی فلزات سنگین که غشای 2M میزان 95 درصد بالاترین میزان پس دهی سولفات و غشای 1M میزان 92 درصد بالاترین میزان پس دهی نیترات را داشته اند.